颁布功夫：2015-04-01 | 观光：3749
内容提要：四氟化碳是目前微电子工业中用量最大的等离子烛刻气体，其高纯气及四氟化碳高纯气配高纯氧气的混合体。
四氟化碳是目前微电子工业中用量最大的等离子烛刻气体，其高纯气及四氟化碳高纯气配高纯氧气的混合体。
1. 可宽泛利用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及钨薄膜资料的烛刻。对于硅和二氧化硅系统，选取CF4-H2反映离子刻蚀时，通过调节两衷禅体的比例，能够获得45：1的选择性，这在刻蚀多晶硅栅极上的二氧化硅薄膜时很有效。
2. 在电子器件表表洗濯、太阳能电池的出产、激光技术、气相绝缘、低温造冷、
泄漏检验剂、节造宇宙火箭姿势、印刷电路出产中的去污剂等方面也大量使用。
3. 由于化学不变性极强，CF4还能够用于金属冶炼和塑料行业等。
4. 四氟化碳的溶氧性很好，因而被科学家用于超深度潜水尝试包办通常压缩空气。目前已在老鼠身上得到成功，在275米到366米的深度内，幼白鼠仍可安全脱险。
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